( 283) # 22Б2283
Автор(ы): Фишгойт Л. А., Давыдов А. Д., Камкин А. Н., Попов А. В., Мешков Л. Л.
Оригинальное заглавие: Состав анодной оксидной пленки на сплаве гамма-TiAl
Язык: Рус.
Источник: Электрохимия 10, 1997, т.33, стр.1202-1206
Ключевые слова: титан сплавы; алюминий сплавы; пленки оксидные

Реферат: Методами рентгеновской фотоэлектронной и оже-спектроскопии с послойным аргонным стравливанием проведено исследование состава приповерхностного слоя сплава гамма-TiAl (Ti - 49 ат. % Al) с пленками воздушного оксида и анодного оксида, сформированного электрохимически при напряжениях U[ф] 3, 5, 10, 15 и 20 В в 0.01 М растворе H[2]SO[4]. Определено распределение элементов по толщине этих пленок. На толстых оксидных пленках (выращенных при U[ф] 15 и 20 В) компоненты сплава практически равномерно распределены по толщине и соотношение Al{3+}/Ti{4+} близко к единице. В более тонких пленках (U[ф]<5 В) имеет место небольшое обогащение алюминиевой составляющей по сравнению с титановой. Анализ данных РФЭС позволил сделать вывод о том, что электрохимическое окисление компонентов сплава в изучаемом интервале потенциалов сопровождается образованием оксидов, в которых тип химической связи Ti и Al с кислородом соответствует оксидам TiO[2] и Al[2]O[3]. Установлена зависимость толщины анодной оксидной пленки от напряжения анодирования (2 нм/В); напряженность электрического поля, при которой происходит рост анодного оксида, составляет 5*10{6} В/см