( 335) # 22Б2335
Автор(ы): Primeau N., Vautey C., Langlet M.
Заглавие: Влияние термического отжига на пленки SiO[2], осажденные [методом] аэрозоль-гель: изучение разверткой ИК-спектров с фурье-преобразованием (FTIR)
Оригинальное заглавие: The effect of thermal annealing on aerosol-gel deposited SiO[2] films: a FTIR deconvolution study
Язык: Англ.
Источник: Thin Solid Films 1-2, 1997, т.310, стр.47-56
Ключевые слова: отжиг; кремний диоксид; спектры ИК

Реферат: Из растворов с молярным отношением вода:тетраэтилортосиликат=2,2 (pH=3,5) процессом аэрозоль-гель при температурах от комнатной до 700°C осаждены тонкие ПЛ SiO[2]. ПЛ исследованы ИК-спектроскопией с фурье-преобразованием, и характеристические полосы поглощения системы золь-гель SiO[2] измерены в зависимости от температуры последующей термообработки. Полосы, зарегистрированные в области 1250-1000 и ЭКВИВ960 см{-1}, развернуты в несколько пиков. Основной пик (1250-1000 см{-1}) состоит из полос, приписанных остаточным алкоксидным группам (1165, 1100 и 1080 см{-1}). Развертка полосы поглощения при ЭКВИВ960 см{-1} показала, что ее частота обусловлена степенью H-связывания. Обсуждены температурные зависимости ИК-полос поглощения