( 523) # 22Б2523
Автор(ы): Биленко Д. И., Белобровая О. Я., Галишникова Ю. Н., Жаркова Э. А., Казанова Н. П., Колдобанова О. Ю., Хасина Е. И.
Оригинальное заглавие: Свойства периодических структур a-Si:H/a-SiN[x]:H, полученных нитридизацией слоев аморфного кремния
Язык: Рус.
Источник: Физ. и техн. полупровод. 3, 1998, т.32, стр.329-333
Ключевые слова: кремний; нитридирование

Реферат: Исследованы кинетика нитридизации слоев a-Si:H и свойства образующихся при нитридизации структур, а также слоев a-Si:H в них. Изменение сопротивления слоев a-Si:H в ходе нитридизации описано конкуренцией легирования, переноса и изменением толщины остающегося слоя a-Si:H. Экспериментальные и расчетные данные по зонному спектру сверхрешеток при толщинах слоев a:Si-HЭКВИВ35A и a-SiH[x]:HЭКВИВ5 A совпадают при описании моделью взаимодействующих квантовых ям при m{*}=(0.36±0.1)m[0]. Сопоставление свойств сверхрешеток, получаемых последовательным осаждением слоев и нитризацией слоев a-Si:H, показало, что последние могут обладать более высоким "структурным совершенством"



Hosted by uCoz