Автор(ы): Park Y.-B., Kang J.-K., Rhee S.-W.
Заглавие: Влияние отношения N[2]O/SiH[4] на свойства низкотемпературных пленок диоксида кремния, полученных химическим осаждением из паровой фазы с использованием дистанционной плазмы
Оригинальное заглавие: Effect of N[2]O/SiH[4] ratio on the properties of low-temperature silicon oxide films from remote plasma chemical vapour deposition
Язык: Англ.
Источник: Thin Solid Films 1-2, 1996, т.280, стр.43-50
Ключевые слова: кремний; пленки; осаждение; плазма; отношение; азот оксид N[2]O; силаны
