( 622) # 24Б2622
Автор(ы): Kal S., Kasko I., Ryssel H.
Заглавие: Изучение свойств тонких пленок TiSi[2] методами спектральной эллипсометрии и анализа термических волн
Оригинальное заглавие: Characterization of thin TiSi[2] films by spectroscopic ellipsometry and thermal wave analysis: Abstr. Eur. Workshop "Mater. Adv. Metallizat.", Villard-de-Lans, March 16-19, 1997: MaM'97
Язык: Англ.
Источник: Vide: Sci., techn. et appl. 283, 1997, т.53, стр.169-172
Ключевые слова: пленки; эллипсометрия; волны

Реферат: Полученные напылением Ti на <100>Si и термообработкой в азоте тонкие ПЛ TiSi[2] (I) охарактеризованы методами спектральной эллипсометрии и анализа термич. волн. ПЛ I обладают низким сопротивлением и хорошей гомогенностью. С помощью эллипсометрии определены показатель преломления и толщина ПЛ. Средняя шероховатость их ПВ составляет 2,1 нм. Данные эллипсометрии хорошо согласуются с результатами др. методов, которая поэтому рекомендована для использования в качестве неразрушающего метода контроля качества силицидных ПЛ