( 624) # 24Б2624
Автор(ы): Tseng W.-T., Hsieh Y.-T., Lin C.-F., Tsai M.-S., Feng M.-S.
Заглавие: Хемомеханическая полировка и характеристики фторированных оксидных тонких пленок, полученных стимулированным плазмой химическим осаждением из паровой фазы
Оригинальное заглавие: Chemical-mechanical polishing and material characteristics of plasma-enhanced chemically vapor deposited fluorinated oxide thin films
Язык: Англ.
Источник: J. Electrochem. Soc. 3, 1997, т.144, стр.1100-1106
Ключевые слова: полирование; оксиды; пленки; осаждение

Реферат: Исследована хемомеханическая полировка тонких ПЛ фторированного SiO[2], полученных стимулированным плазмой химическим осаждением из паровой фазы. Измерены микротвердость, модуль упругости и нек-рые др. параметры ПЛ и прослежена их взаимосвязь с эффективностью полировки. При фиксированных химических и механических параметрах процесса скорость удаления в-ва при полировке повышается с увеличением содержания фтора в оксиде из-за понижения твердости и модуля упругости. Скорость полировки при pH=10 выше, чем при pH=9. По сравнению с ПЛ нелегированного оксида фторированные ПЛ более чувствительны к воздействиям химических реагентов и влажности