( 633) # 24Б2633
Автор(ы): Hermansson K., Grey F., Bengtsson S., Sodervall U.
Заглавие: Получение сверхчистой межфазной поверхности Si/Si в результате подготовки поверхности и непосредственного соединением в сверхвысоком вакууме
Оригинальное заглавие: Ultraclean Si/Si interface formation by surface preparation and direct bonding in ultrahigh vacuum
Язык: Англ.
Источник: J. Electrochem. Soc. 5, 1998, т.145, стр.1645-1649
Ключевые слова: поверхности раздела; кремний; кремний

Реферат: Исследованы очистка и поведение пластин Si в сверхвысоком вакууме порядка 10{-10} Торр. Согласно данным МСВИ, ПВ раздела соединенных пластин характеризуются исключительно низким уровнем загрязнений. Однако, на межфазной ПВ зарегистрированы потенциальные барьеры, обусловленные разориентацией пластин и остаточным кислородом