( 635) # 24Б2635
Автор(ы): Yang G., Kim J. H., Yang S., Weiss A. H.
Заглавие: Анализ с профилированием по глубине поверхностей, полученных отжигом сверхтонких пленок Au, нанесенных на Si(100)
Оригинальное заглавие: Depth profile analysis of surfaces produced by annealing ultra-thin films of Au deposited on Si(100)
Язык: Англ.
Источник: Surface Sci. 1, 1996, т.367, стр.45-55
Ключевые слова: отжиг; пленки; золото; кремний; поверхности анализ

Реферат: Методом оже-электронной спектроскопии с использованием пучка позитронов в кач-ве источника ионизирующего излучения и низкоэнергетич. (0,5 кэВ) ионов Ne для распыления выполнен анализ состава систем, представляющих собой сверхтонкие ПЛ Au, нанесенные при 173 К на подложку Si(100). При начальных значениях толщины слоев Au 5 и 10 A концентрация Au до глубины 1 монослой близка к 100% и постепенно спадает до 0% на глубинах 13 и 28 A, соответственно. Показана более высокая разрешающая способность по глубине использованного метода по сравнению с другими вариантами оже-электронной спектроскопии



Hosted by uCoz