Автор(ы): Lucovsky G., Yang H., Jing Z., Whitten J. L.
Заглавие: Участие атомов водорода в образовании метастабильных дефектов на межфазных поверхностях Si-SiO[2]
Оригинальное заглавие: Hydrogen atom participation in metastable defect formation at Si-SiO[2] interfaces
Язык: Англ.
Источник: Appl. Surface Sci., 1997, стр.192-197
Ключевые слова: водород; дефекты; поверхности раздела; кремний; кремний диоксид
