Автор(ы): Yuhara J., Ishigami R., Ishikawa D., Morita K.
Заглавие: Растворение и сегрегация монослоев атомов Cu, Ni и Co на поверхности Si (111)-(РАДИКАЛ(3)*РАДИКАЛ(3))-Ag, индуцированные термическим отжигом
Оригинальное заглавие: Dissolution and segregation of monolayer Cu, Ni and Co atoms on the Si(111)-РАДИКАЛ(3)*РАДИКАЛ(3)-Ag surface induced by thermal annealing
Язык: Англ.
Источник: Appl. Surface Sci., 1996, т.104-105, стр.163-168
Ключевые слова: растворение; сегрегация; мономолекулярные слои; медь; никель; кобальт; кремний; отжиг
