( 583) # 24Б2583
Автор(ы): Wohllebe A., Hollander B., Mesters S., Dieker C., Crecelius G., Michelsen W., Mantl S.
Заглавие: Поверхностная диффузия Fe и рост островков FeSi[2] на поверхности (111) Si
Оригинальное заглавие: Surface diffusion of Fe and island growth of FeSi[2] on Si(111) surfaces
Язык: Англ.
Источник: Thin Solid Films 1-2, 1996, т.287, стр.93-100
Ключевые слова: диффузия; железо; кремний

Реферат: Для анализа начальных стадий выращивания силицида молекулярно-пучковой аллотаксией (нуклеация и рост выделений FeSi[2]) проведено совместное осаждение Fe и Si в соотношении 1:3 на подложку Si(111) при 580-720°C. Размер кластеров, их фазовый состав и форма определены методами рассеяния ионов средних энергий, дифракции электронов и просвечивающей электронной микроскопии. При повышении температуры подложки поверхностная плотность кластеров понижается, а их средний размер возрастает. С помощью теории поверхностной диффузии Венейбла найдены энергия активации диффузии Fe на Si(111) при совместном осаждении (0,76 эВ) и критический размер кластеров (3,3 атома Fe в кластере). Таким образом, на ПВ стабильны кластеры FeSi[2], содержащие больше 3 атомов Fe. Из факта одновременного образования кластеров альфа- и бета-FeSi[2] сделан вывод о существенном влиянии локальных поверхностных условий на нуклеацию соответствующих фаз